ION SPUTTER

メーカー日立ハイテク (Hitachi High-Tech)

型式E-1045

年式2008

外寸

展示場

価格商談中

ASK管理No.M40637

機械仕様用途:SEM,FIB-SEMの前処理、成膜材料:プラチナ(白金)、プラチナ成膜方式:ダイオード放電マグネトロン型、最大試料サイズ:φ60mm、

添付ファイル

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