基板洗浄装置
メーカー芝浦メカトロニクス
型式HCIWーLVWAIHUーL
年式-
外寸W5000 D1200 H2000
展示場塩山テクニカルセンター
価格入札会出品中
ASK管理No.O50152
機械仕様処理ワーク:
ガラス基板(300×400/300×360mm t=0.7/1.1mm)
タクトタイム:60秒/枚
搬送速度:600mm/min
添付ファイル

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メーカー芝浦メカトロニクス
型式HCIWーLVWAIHUーL
年式-
外寸W5000 D1200 H2000
展示場塩山テクニカルセンター
価格入札会出品中
ASK管理No.O50152
機械仕様処理ワーク:
ガラス基板(300×400/300×360mm t=0.7/1.1mm)
タクトタイム:60秒/枚
搬送速度:600mm/min
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