半導体(前工程) 成膜・めっき スパッタ装置 スパッタ装置 メーカーアネルバ 型式E-400S 年式2007 外寸W1450 D1700 H2200 展示場塩山テクニカルセンター 価格お問合せください ASK管理No.OA0021 在庫確認・お問合せ 機械仕様最大成膜エリア:φ200mm 基板加熱:Max300℃ ターゲット:φ4型プレーナーマグネトロンカソード4基 付属ロータリーポンプ(adixen 2033SD) 付属チラー:SMC(HRS024-A-20-BT) 電源:三相AC200V 50/60Hz 100A 添付ファイル 動作チェックシート ※ 以下の画像をクリックをすると拡大します