プラズマCVD装置
メーカーアルバック
型式CC-200（SiH4）
年式2007
外寸W約800 D2300 H2000（本体）W1000 D1000 H1200（ﾄﾞﾗｲﾎﾟﾝﾌﾟ+ﾒｶﾆｶﾙﾌﾞｰｽﾀｰﾎﾟﾝﾌﾟ）W800 D550 H1600（ｷｬﾋﾞﾈｯﾄ型除害塔）
展示場九州テクニカルセンター
価格商談中
ASK管理No.P31178
機械仕様電源：φ３ ２００V １５ｋVA
高周波電源：27.12MHz 0.5kw
搬送トレーサイズ：25㎝x25㎝
基板サイズ：3inch×5枚（1バッチ）
ガス種：O2／100ccm SiH4/Ar(20%)／250ccm CF4／500ccm
NH3／200ccm N2／1000ccm
N2O／2000ccm N2O／500ccm
排気系：ﾒｶﾆｶﾙﾌﾞｰｽﾀｰﾎﾟﾝﾌﾟ＋ﾄﾞﾗｲﾎﾟﾝﾌﾟ
除害装置：VEGACLEAN JGS45S型 太陽日酸
W1000 D1000 H1200 (ﾄﾞﾗｲﾎﾟﾝﾌﾟ+ﾒｶﾆｶﾙﾌﾞｰｽﾀｰﾎﾟﾝﾌﾟ) W800 D550 H1600 (ｷｬﾋﾞﾈｯﾄ型除害塔)
添付ファイル
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